今天:
 
您现在的位置:主页 > 财经报道 >

中国成功研制超分辨率光刻机 相关公司受关注

作者:商务   来源:互联网  点击:  更新时间:2018-12-04 05:15

  e公司讯,中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目通过验收,这个项目最主要的成果就是中国科学家研发成功世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻机,365nm波长即可生产22nm工艺芯片,通过多重曝光等手段可以实现10nm以下的芯片生产。光刻机是半导体制造业中最核心的设备。南大光电(300346,股吧)参股的北京科华是国内光刻胶领域的龙头企业。晶瑞股份是国内稀缺的实现了IC制造商使用的i线光刻胶量产的企业。(怀新资讯)

商务中国网免责声明:
本文转自网络,仅代表作者个人观点,与商务中国网无关。其原创性以及文中陈述文字和内容未经本站证实,对本文以及其中全部或者部分内容、文字的真实性、完整性、及时性本站不作任何保证或承诺,请读者仅作参考,并请自行核实相关内容。
更多精彩热图